哈默納科刻蝕加工諧波CSF-17-80-2UH

離子束刻蝕加工

離子束刻蝕是通過用能量為0.5一SkeV的離子轟擊工件，將工件材料原子從工件表面去除的工藝過程，是一撞擊濺射過程。哈默納科刻蝕加工諧波CSF-17-80-2UH為了避免入射離子與工件材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，必須用惰性元素的離子。氫氣的原子序數(shù)高，價格便宜，所以通常用氫離子進行轟擊刻蝕。由于離子直徑很小〔約十分之一納米)，可以認為離子刻蝕的過程是逐個原子剝離，刻蝕的分辨率可達微米級甚至是亞微米級。但刻蝕速度很低，剝離速度大約每秒一層到幾十層原子。因此，離子刻蝕是一種原子尺度的切削加工，又稱離子銑削。

   目前，離子束刻蝕在高精度加工、表面拋光、圖形刻蝕、電鏡試樣制備、石英晶體振蕩器以及各種傳感器件的制作等方面應(yīng)用較為廣泛哈默納科刻蝕加工諧波CSF-17-80-2UH。離子束刻蝕加工可達到很高的分辨率，適于刻蝕精細圖形，實現(xiàn)高精度加工。離子束刻蝕加工小孔的優(yōu)點是孔壁光滑，鄰近區(qū)域不產(chǎn)生應(yīng)力和損傷，而且能加工出任意形狀的小孔。

   離子束刻蝕用于加工陀螺儀空氣軸承和動壓馬達上的溝槽，分辨率高、精度高、重復(fù)性好，加工非球面透鏡能達到其他方法不能達到的精度。